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技術(shù)文章
旋流霧室的優(yōu)勢(shì)和主要作用是什么
更新時(shí)間：2022-03-28   點(diǎn)擊量：1616
 　　旋流霧室是進(jìn)樣系統(tǒng)的一個(gè)基本部件，負(fù)責(zé)過(guò)濾樣品薄霧以允許大小分布適當(dāng)?shù)囊旱蔚竭_(dá)等離子體。特點(diǎn)是它有一根能用作二次顆粒分離器的中心傳遞管，從而有助于將較大的氣溶膠顆粒與樣品分離開(kāi)來(lái)。這既可減少等離子體內(nèi)的溶劑負(fù)載量又不影響檢出限。擋板底部和霧室的間距經(jīng)過(guò)嚴(yán)密控制以使液滴無(wú)法在擋板底部形成。其優(yōu)點(diǎn)是可以實(shí)現(xiàn)順暢引流并能提高準(zhǔn)確度。
 
　　旋流霧室的優(yōu)勢(shì)：
　　該開(kāi)孔超大，因此樣品溶液就不會(huì)像其他采用旋流設(shè)計(jì)的產(chǎn)品那樣積聚在周?chē)?。這樣可減少交叉污染、縮短沖洗時(shí)間并提高Optima的分析效率。
 
　　每個(gè)霧室內(nèi)均增加了一個(gè)經(jīng)精密加工的脊?fàn)钔黄?，沿著霧室頂部延伸。脊?fàn)钔黄鸬慕嵌群蜕疃葘?duì)霧化性能均是至關(guān)重要的。它可有效排空樣品廢液并清除涌入等離子體內(nèi)的較大液滴。這樣可消除對(duì)精度存在不良影響的周期性“尖峰”問(wèn)題并有助于縮短沖洗時(shí)間。
 
　　擋板底部和霧室的間距經(jīng)過(guò)嚴(yán)密控制以使液滴無(wú)法在擋板底部形成。其優(yōu)點(diǎn)是可以實(shí)現(xiàn)順暢引流并能提高準(zhǔn)確度。
 
　　擋板在銳角處被切割，從而可在一個(gè)較大的霧室橫截面內(nèi)進(jìn)行采樣；與此相反，若直線(xiàn)切割則會(huì)導(dǎo)致采樣橫截面非常小。其優(yōu)點(diǎn)是可以進(jìn)行更有代表性的采樣并減少基質(zhì)效應(yīng)。
 
　　旋流霧室主要起兩個(gè)作用：
　　1、緩沖霧化器產(chǎn)生的不穩(wěn)定的氣溶膠，經(jīng)其過(guò)渡后使氣溶膠連續(xù)平穩(wěn)的進(jìn)入等離子體，保持等離子體的物理性能的穩(wěn)定；
 
　　2、過(guò)濾氣溶膠中較大的顆粒，確保只有小于某一定粒徑的氣溶膠進(jìn)入等離子體，提高測(cè)試的精密度。

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